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Spacer Engineered FinFET Architectures (eBook)

High-Performance Digital Circuit Applications
eBook Download: EPUB
2017
154 Seiten
CRC Press (Verlag)
978-1-351-75103-2 (ISBN)
Systemvoraussetzungen
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This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
Erscheint lt. Verlag 26.6.2017
Sprache englisch
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Technik Umwelttechnik / Biotechnologie
ISBN-10 1-351-75103-4 / 1351751034
ISBN-13 978-1-351-75103-2 / 9781351751032
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