High Density Plasma Sources -  Oleg A. Popov

High Density Plasma Sources (eBook)

Design, Physics and Performance
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1996 | 1. Auflage
465 Seiten
Elsevier Science (Verlag)
978-0-8155-1789-4 (ISBN)
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This book describes the design, physics, and performance of high density plasma sources which have been extensively explored in low pressure plasma processing, such as plasma etching and planarization, plasma enhanced chemical vapor deposition of thin films, sputtered deposition of metals and dielectrics, epitaxial growth of silicon and GaAs, and many other applications.
This is a comprehensive survey and a detailed description of most advanced high density plasma sources used in plasma processing. The book is a balanced presentation in that it gives both a theoretical treatment and practical applications. It should be of considerable interest to scientists and engineers working on plasma source design, and process development.
This book describes the design, physics, and performance of high density plasma sources which have been extensively explored in low pressure plasma processing, such as plasma etching and planarization, plasma enhanced chemical vapor deposition of thin films, sputtered deposition of metals and dielectrics, epitaxial growth of silicon and GaAs, and many other applications. This is a comprehensive survey and a detailed description of most advanced high density plasma sources used in plasma processing. The book is a balanced presentation in that it gives both a theoretical treatment and practical applications. It should be of considerable interest to scientists and engineers working on plasma source design, and process development.
Erscheint lt. Verlag 31.12.1996
Sprache englisch
Themenwelt Naturwissenschaften Chemie Analytische Chemie
Naturwissenschaften Physik / Astronomie Plasmaphysik
Naturwissenschaften Physik / Astronomie Thermodynamik
Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Technik Maschinenbau
ISBN-10 0-8155-1789-0 / 0815517890
ISBN-13 978-0-8155-1789-4 / 9780815517894
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