Fabrication of Heat-Resistant and Plastic-Formable Silicon Nitride (eBook)

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2015 | 1st ed. 2015
VIII, 46 Seiten
Springer Japan (Verlag)
978-4-431-55384-7 (ISBN)

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Fabrication of Heat-Resistant and Plastic-Formable Silicon Nitride -  Toshiyuki Nishimura,  Xin Xu
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In this book, improvements in the heat resistance of silicon nitride (Si3N4) ceramics using grain boundary control and in plasticity at high temperatures using grain size control in order to reduce the cost of shaping Si3N4 are described.

 

The heat resistance of Si3N4 is improved by mixing a slight amount of sintering additive as an impurity into the original material powder. The author presents his findings on the high heat resistance of Si3N4.

 

The author also develops a new fabrication method for Si3N4 nano-ceramics that produces high plastic formability. The method developed offers two improved points in grinding and sintering processes. The author found that the plastic formability of Si3N4 nanoceramics is dependent on load stress; the results of his research are detailed in this book.



Dr. Nishimura Toshiyuki
Chief Researcher,  Sialon Group, Sialon Unit, Environment and Energy Materials Division,  National Institute for Materials Science
Email: Nishimura@Toshiyukinims.go.jp
Phone: +81-29-860-4488
1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, 305-0044 JAPAN
In this book, improvements in the heat resistance of silicon nitride (Si3N4) ceramics using grain boundary control and in plasticity at high temperatures using grain size control in order to reduce the cost of shaping Si3N4 are described. The heat resistance of Si3N4 is improved by mixing a slight amount of sintering additive as an impurity into the original material powder. The author presents his findings on the high heat resistance of Si3N4. The author also develops a new fabrication method for Si3N4 nano-ceramics that produces high plastic formability. The method developed offers two improved points in grinding and sintering processes. The author found that the plastic formability of Si3N4 nanoceramics is dependent on load stress; the results of his research are detailed in this book.

Dr. Nishimura Toshiyuki Chief Researcher,  Sialon Group, Sialon Unit, Environment and Energy Materials Division,  National Institute for Materials Science Email: Nishimura@Toshiyukinims.go.jp Phone: +81-29-860-4488 1-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, 305-0044 JAPAN

Introduction: Deformation of Silicon Nitride at High Temperatures.- Preparation of nanosize silicon-nitride-based ceramics and their superplasticity.- Grain Boundary Control to Obtain Heat-Resistant Silicon Nitride.- Conclusions.

Erscheint lt. Verlag 23.7.2015
Reihe/Serie NIMS Monographs
Zusatzinfo VIII, 46 p. 35 illus., 4 illus. in color.
Verlagsort Tokyo
Sprache englisch
Themenwelt Naturwissenschaften Chemie Analytische Chemie
Naturwissenschaften Physik / Astronomie Festkörperphysik
Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Technik Maschinenbau
Schlagworte Creep of Silicon Nitride • Heat Resistance of Si3N4 • Heat Resistance of Silicon Nitride • Nanoceramics • Non-oxide Ceramics • plastic deformation • Plasticity of Silicon Nitride • Si3N4 Nano-ceramics • Superplastic Ceramics
ISBN-10 4-431-55384-3 / 4431553843
ISBN-13 978-4-431-55384-7 / 9784431553847
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