Plasma Etching - M. Sugawara

Plasma Etching

Fundamentals and Applications

(Autor)

Buch | Hardcover
356 Seiten
1998
Oxford University Press (Verlag)
978-0-19-856287-0 (ISBN)
239,95 inkl. MwSt
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

1. Introduction ; 2. RF discharges ; 3. Physical basis of plasma etching process ; 4. Diagnostics of plasma particles and potentials ; 5. Technology of reactive ion etching ; 6. Magnetic field coupled etchers ; 7. ECR plasma etchers ; 8. Future propects ; Index

Erscheint lt. Verlag 28.5.1998
Reihe/Serie Series on Semiconductor Science and Technology ; 7
Zusatzinfo 2 colour plates, 5 halftones, numerous line figures
Verlagsort Oxford
Sprache englisch
Maße 163 x 242 mm
Gewicht 743 g
Themenwelt Naturwissenschaften Physik / Astronomie Angewandte Physik
Naturwissenschaften Physik / Astronomie Plasmaphysik
Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Technik Maschinenbau
ISBN-10 0-19-856287-X / 019856287X
ISBN-13 978-0-19-856287-0 / 9780198562870
Zustand Neuware
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