Spektroskopische Ellipsometrie zur Bestimmung der Strukturparameter von Fotomasken

In dieser Arbeit wird die Bestimmung von Strukturparametern auf Fotomasken durch spektroskopische Ellipsometrie untersucht. Aufgrund der Beugungsordnungen bei der Reflexion von Licht an periodischen Strukturen ist es möglich, durch Regressionsverfahren, die Strukturdimensionen der Strukturen zu bestimmen. Dazu wird eine rigoros gekoppelte Wellenanalyse angewendet. Für die Bestimmung der Linienkantenrauigkeit ist die Anwendung der Müller-Matrix spektroskopischen Ellipsometrie essentiell.