Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology XVI
2009
SPIE Press (Verlag)
978-0-8194-7656-2 (ISBN)
SPIE Press (Verlag)
978-0-8194-7656-2 (ISBN)
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| Erscheint lt. Verlag | 15.7.2009 |
|---|---|
| Zusatzinfo | Illustrations |
| Verlagsort | Bellingham |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
| ISBN-10 | 0-8194-7656-0 / 0819476560 |
| ISBN-13 | 978-0-8194-7656-2 / 9780819476562 |
| Zustand | Neuware |
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