Analytische, numerische und experimentelle Untersuchungen zum chemisch-mechanischen Polieren von Siliziumwafern
Seiten
2013
Technische Universität Bergakademie Freiberg (Verlag)
978-3-86012-411-6 (ISBN)
Technische Universität Bergakademie Freiberg (Verlag)
978-3-86012-411-6 (ISBN)
Lese- und Medienproben
- Keine Verlagsinformationen verfügbar
- Artikel merken
Reihe/Serie | Berichte des Instituts für Mechanik und Fluiddynamik ; 12 |
---|---|
Sprache | deutsch |
Maße | 144 x 205 mm |
Gewicht | 250 g |
Einbandart | Paperback |
Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
Schlagworte | Chemisch-mechnisches Polieren (CMP) • Finite-Elemente-Methode • Wafer |
ISBN-10 | 3-86012-411-0 / 3860124110 |
ISBN-13 | 978-3-86012-411-6 / 9783860124116 |
Zustand | Neuware |
Haben Sie eine Frage zum Produkt? |
Mehr entdecken
aus dem Bereich
aus dem Bereich