Analytische, numerische und experimentelle Untersuchungen zum chemisch-mechanischen Polieren von Siliziumwafern

Buch | Softcover
174 Seiten
2013
Technische Universität Bergakademie Freiberg (Verlag)
978-3-86012-411-6 (ISBN)

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32,00 inkl. MwSt
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Reihe/Serie Berichte des Instituts für Mechanik und Fluiddynamik ; 12
Sprache deutsch
Maße 144 x 205 mm
Gewicht 250 g
Einbandart Paperback
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Schlagworte Chemisch-mechnisches Polieren (CMP) • Finite-Elemente-Methode • Wafer
ISBN-10 3-86012-411-0 / 3860124110
ISBN-13 978-3-86012-411-6 / 9783860124116
Zustand Neuware
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