Nano Lithography (eBook)
320 Seiten
Wiley (Verlag)
978-1-118-62162-2 (ISBN)
Stefan Landis, CEA-LETI-Minatec, Grenoble, France.
Foreword xi
Jörge DE SOUSA NORONHA
Introduction xvii
Michel BRILLOUËT
Chapter 1. X-ray Lithography: Fundamentals and Applications
1
Massimo TORMEN, Gianluca GRENCI, Benedetta MARMIROLI and Filippo
ROMANATO
1.1. Introduction 1
1.2. The principle of X-ray lithography 5
1.3. The physics of X-ray lithography 25
1.4. Applications 55
1.5. Appendix 1 79
1.6. Bibliography 79
Chapter 2. NanoImprint Lithography 87
Stefan LANDIS
2.1. From printing to NanoImprint 87
2.2. A few words about NanoImprint 90
2.3. The fabrication of the mold 96
2.4. Separating the mold and the resist after imprint:
de-embossing 100
2.5. The residual layer problem in NanoImprint 118
2.6. Residual layer thickness measurement 132
2.7. A few remarks on the mechanical behavior of molds and flow
properties of the nanoimprint process 148
2.8. Conclusion 157
2.9. Bibliography 157
Chapter 3. Lithography Techniques Using Scanning Probe
Microscopy 169
Vincent BOUCHIAT
3.1. Introduction 169
3.2. Presentation of local-probe microscopes 170
3.3. General principles of local-probe lithography techniques
171
3.4. Classification of surface structuring techniques using
local-probe microscopes 173
3.5. Lithographic techniques with polymer resist mask 179
3.6. Lithography techniques using oxidation-reduction
interactions 185
3.7. "Passive" lithography techniques 198
3.8. Conclusions and perspectives 200
3.9. Bibliography 201
Chapter 4. Lithography and Manipulation Based on the Optical
Properties of Metal Nanostructures 207
Renaud BACHELOT and Marianne CONSONNI
4.1. Introduction 207
4.2. Surface plasmons 208
4.3 Localized plasmon optical lithography 216
4.4. Delocalized surface plasmon optical lithography 222
4.5. Conclusions, discussions and perspectives 225
4.6. Bibliography 226
Chapter 5. Patterning with Self-Assembling Block Copolymers
231
Karim AISSOU, Martin KOGELSCHATZ, Claire AGRAFFEIL, Alina
PASCALE and Thierry BARON
5.1. Block copolymers: a nano-lithography technique for
tomorrow? 231
5.2. Controlling self-assembled block copolymer films 233
5.3. Technological applications of block copolymer films 237
5.4. Bibliography 244
Chapter 6. Metrology for Lithography 249
Johann FOUCHER and Jérôme HAZART
6.1. Introduction 249
6.2. The concept of CD in metrology 250
6.3. Scanning electron microscopy (SEM) 254
6.4. 3D atomic force microscopy (AFM3D) 266
6.5. Grating optical diffractometry (or scatterometry) 286
6.6. What is the most suitable technique for lithography?
310
6.7. Bibliography 316
List of Authors 321
Index 323
Erscheint lt. Verlag | 4.3.2013 |
---|---|
Sprache | englisch |
Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
Schlagworte | Electrical & Electronics Engineering • Elektrotechnik u. Elektronik • MEMS |
ISBN-10 | 1-118-62162-X / 111862162X |
ISBN-13 | 978-1-118-62162-2 / 9781118621622 |
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