Integration piezoelektrisch aktiver Schichten auf Silizium für die Mikrosystemtechnik

(Autor)

Buch | Softcover
160 Seiten
2011 | 1., Auflage
Sierke Verlag
978-3-86844-326-4 (ISBN)

Lese- und Medienproben

Integration piezoelektrisch aktiver Schichten auf Silizium für die Mikrosystemtechnik - Stefan Schimpf
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Thema dieser Arbeit ist die Integration eines piezoelektrischen Antriebs in die Silizium-Mikromechanik. Der piezoelektrische Effekt ist eine direkte Umwandlung von elektrischer in mechanische Energie durch Formveränderung eines Körpers. Er eignet sich durch seine hohe Energiedichte, die großen erzielbaren Kräfte und die hohen erreichbaren Frequenzen sehr gut für den Einsatz in elektromechanischen Mikrosystemen auf Siliziumbasis.
Um eine optimale Kraftwirkung und Energieübertragung zu erreichen, müssen piezokeramische Schichten als Antriebe für Siliziummembranen eine bestimmte Schichtdicke aufweisen. Deshalb wurde in dieser Arbeit eine Dickschichttechnologie entwickelt, die diese Schichtdicken erzeugen kann und sich in den Prozess der Herstellung von Mikrosystemen aus Silizium einfügt. Das Hauptaugenmerk
liegt dabei auf der Kompatibilität der Technologie zu den bestehenden Verfahren. Der gesamte Prozess wird mit Hilfe der Lithographie strukturiert. Dabei sind nur vier Strukturierungsebenen nötig. Da der Aktor aus zwei Elektroden und einer piezoelektrischen Schicht auf einer Membran besteht, ist er einfach in komplexere Systeme zu integrieren und sehr robust. Dies macht ihn besonders für Systeme mit geringeren Stückzahlen interessant, da der Entwurfsaufwand gering gehalten werden kann.
Die resultierenden Schichten werden hinsichtlich ihrer mechanischen und elektrischen Eigenschaften charakterisiert, um schließlich einen Demonstrator zu entwickeln, der mit Hilfe der piezoelektrischen Schicht bereits geringste mechanische Spannungen messen kann.
Verlagsort Göttingen
Sprache deutsch
Maße 148 x 210 mm
Gewicht 220 g
Einbandart gebunden
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Schlagworte Elektrotechnik • Mikrosystemtechnik • Silizium-Mikromechanik
ISBN-10 3-86844-326-6 / 3868443266
ISBN-13 978-3-86844-326-4 / 9783868443264
Zustand Neuware
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