Design for Manufacturability with Advanced Lithography (eBook)
XI, 164 Seiten
Springer International Publishing (Verlag)
978-3-319-20385-0 (ISBN)
Introduction.- Layout Decomposition for Triple Patterning.- Layout Decomposition for Other Patterning Techniques.- Standard Cell Compliance and Placement Co-Optimization.- Design for Manufacturability with E-Beam Lithography.- Conclusions and Future Works.-
| Erscheint lt. Verlag | 28.10.2015 |
|---|---|
| Zusatzinfo | XI, 164 p. 100 illus., 91 illus. in color. |
| Verlagsort | Cham |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Mathematik / Informatik ► Informatik |
| Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik | |
| Schlagworte | design for manufacturability • Design for Manufacturability and Yield • Electron Beam Lithography • Multiple patterning lithography • Nano-CMOS Design for Manufacturability • Triple Patterning Lithography |
| ISBN-10 | 3-319-20385-1 / 3319203851 |
| ISBN-13 | 978-3-319-20385-0 / 9783319203850 |
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