Plasmaunterstützte Abscheidung und Charakterisierung von Siliziumnitridfilmen (eBook)
Die untersuchten Eigenschaften der abgeschiedenen Filme sind die deponierte Schichtdicke, die Brechzahl des Films, die Oberflächenbeschaffenheit sowie die Rauheit der Filmoberfläche. Die Brechzahl und die Schichtdicke der Filme sind mithilfe der Ellipsometrie ermittelt worden. Die Oberflächenbeschaffenheit und die Rauheit wurden mit dem Rasterkraftmikrosop untersucht.
| Erscheint lt. Verlag | 30.3.2021 |
|---|---|
| Verlagsort | München |
| Sprache | deutsch |
| Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
| Schlagworte | CVD • PECVD • Siliziumnitrid |
| ISBN-10 | 3-346-37730-X / 334637730X |
| ISBN-13 | 978-3-346-37730-2 / 9783346377302 |
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