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5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 2000

Buch | Softcover
182 Seiten
2001
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-9651577-4-2 (ISBN)
134,65 inkl. MwSt
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This text covers topics such as: CVD process damage effects; electron shading mechanism; front-end process damage effects; damage in multilevel interconnects; damage effects characterization; 300mm technology; thin dielectrics and degradation mechanisms and antenna test structures and design.
Erscheint lt. Verlag 31.1.2001
Verlagsort Piscataway NJ
Sprache englisch
Themenwelt Naturwissenschaften Physik / Astronomie Plasmaphysik
Technik
ISBN-10 0-9651577-4-1 / 0965157741
ISBN-13 978-0-9651577-4-2 / 9780965157742
Zustand Neuware
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