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High-k Materials in Multi-Gate FET Devices (eBook)

J. Paulo Davim, Parveen Singla, Shubham Tayal (Herausgeber)

eBook Download: EPUB

2021
176 Seiten
CRC Press (Verlag)
978-1-000-43881-9 (ISBN)

High-k Materials in Multi-Gate FET Devices focuses on high-k materials for advanced FET devices. It discusses emerging challenges in the engineering and applications and considers issues with associated technologies. It covers the various way of utilizing high-k dielectrics in multi-gate FETs for enhancing their performance at the device as well as circuit level. Provides basic knowledge about FET devices Presents the motivation behind multi-gate FETs, including current and future trends in transistor technologies Discusses fabrication and characterization of high-k materials Contains a comprehensive analysis of the impact of high-k dielectrics utilized in the gate-oxide and the gate-sidewall spacers on the GIDL of emerging multi-gate FET architectures Offers detailed application of high-k materials for advanced FET devices Considers future research directions This book is of value to researchers in materials science, electronics engineering, semiconductor device modeling, IT, and related disciplines studying nanodevices such as FinFET and Tunnel FET and device-circuit codesign issues.

Erscheint lt. Verlag	17.9.2021
Sprache	englisch
Themenwelt	Naturwissenschaften ► Biologie
	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Elektrodynamik
	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik
	Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik
	Technik ► Umwelttechnik / Biotechnologie
ISBN-10	1-000-43881-3 / 1000438813
ISBN-13	978-1-000-43881-9 / 9781000438819

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