Advances in Electrochemical Science and Engineering
Seiten
1999
|
1., Aufl.
Wiley-VCH (Verlag)
978-3-527-29515-9 (ISBN)
Wiley-VCH (Verlag)
978-3-527-29515-9 (ISBN)
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Aus Rezensionen früherer Bände der Reihe:
'Alle Beiträge in diesem Band werden den hohen Maßstäben, die diese Reihe bereits gesetzt hat, gerecht und allen Elektrochemikern von großem Nutzen sein.' Journal of Electroanalytical Chemistry and Interfacial Chemistry
'Alle Beiträge in diesem Band werden den hohen Maßstäben, die diese Reihe bereits gesetzt hat, gerecht und allen Elektrochemikern von großem Nutzen sein.' Journal of Electroanalytical Chemistry and Interfacial Chemistry
From the contents:
Computer Simulations of Electrochemical Interfaces (E. Spohr).
Time and Frequency Resolved Studies of Photoelectrochemical Kinetics (L. Peter & D. Vanmaekelbergh).
Chemical Deposition of Chalcogenide Thin Films from Solutions (D. Lincot, et al.).
Plasma Engineering (D. Economou).
Index.
Reihe/Serie | Advances in Electrochemical Science and Engineering ; BD 6 | 1.60 |
---|---|
Mitarbeit |
Herausgeber (Serie): Richard C Alkire, Dieter M Kolb |
Sprache | englisch |
Maße | 170 x 240 mm |
Gewicht | 808 g |
Einbandart | Paperback |
Themenwelt | Naturwissenschaften ► Chemie ► Physikalische Chemie |
Schlagworte | Elektrochemie |
ISBN-10 | 3-527-29515-1 / 3527295151 |
ISBN-13 | 978-3-527-29515-9 / 9783527295159 |
Zustand | Neuware |
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