Handbook of Chemical Vapor Deposition -  Hugh O. Pierson

Handbook of Chemical Vapor Deposition (eBook)

Principles, Technology and Applications
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1999 | 2. Auflage
506 Seiten
Elsevier Science (Verlag)
978-0-8155-1743-6 (ISBN)
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Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.
Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.
Erscheint lt. Verlag 1.9.1999
Sprache englisch
Themenwelt Naturwissenschaften Chemie Technische Chemie
Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Technik Maschinenbau
ISBN-10 0-8155-1743-2 / 0815517432
ISBN-13 978-0-8155-1743-6 / 9780815517436
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